產(chǎn)品中心

我的位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體烘烤設(shè)備 > 無氧烘箱 > 無氧烘箱，無氧化烘箱

P產(chǎn)品分類RODUCT CATEGORY

半導(dǎo)體烘烤設(shè)備

檢測設(shè)備高精度恒溫?zé)岚?/a> 高低溫測試儀快速退火爐刻蝕機(jī) 馬弗爐防潮箱潔凈烘箱無氧烘箱無塵烘箱固化烤箱氮?dú)?充氮烘箱真空烤箱潔凈烤箱

查看全部

A相關(guān)文章RTICLES

半導(dǎo)體充氮潔凈烘烤箱高溫?zé)o氧烘箱工藝指南

氮?dú)夂嫦湓诎雽?dǎo)體制程如何選擇？

氮?dú)夂嫦洌偌墲崈艉嫦湓诠饪誊浐婵竟に囎⒁馐马?xiàng)有哪些？

充氮真空無氧烘箱的原理

查看全部

無氧烘箱，無氧化烘箱

無氧烘箱，無氧化烘箱在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，晶圓表面預(yù)處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、對準(zhǔn)、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2025-09-16
訪問量：3253

立即咨詢

聯(lián)系電話：021-31434441

產(chǎn)品詳情

無氧烘箱，無氧化烘箱的重要性

在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，晶圓表面預(yù)處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤(Post Exposure Bake，PEB)、對準(zhǔn)、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響。更重要的是晶圓曝光后烘烤溫度的變化會影響終成像的光刻特征尺寸，因此光刻工藝中曝光后烘烤條件溫度的選取顯得尤為重要。然而在高溫烘烤時(shí)防氧化更為重要。

無氧烘箱，無氧化烘箱主要用途

無氧烘箱用半導(dǎo)體集成電路制造中的封裝，堅(jiān)膜，老化等工藝。PI、BCB膠高溫固化烘烤、光刻膠固化工藝要求，適用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等.

無氧化烘箱技術(shù)性能

內(nèi)部大小：W350mm×D350mm×H350mm，W600mm×D600mm×H600mm可定制

材料：外部采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑，內(nèi)部采用優(yōu)質(zhì)耐高溫SUS304不銹鋼

溫度指標(biāo)：50-300、450℃

溫度分辨率： 0.1℃

波動度：＜±1.0℃

均勻度：≤±1.5%

潔凈度： class 100，可選配

升溫速度：0-10℃/min

降溫速度:依降溫配置而定

氧濃度：≤ 20ppm

操作方式：人機(jī)交互；

控制：曲線升降溫模式

控溫儀表：進(jìn)口溫控儀

控溫段數(shù)：23×20段

測溫裝置：高精度熱電偶

超溫保護(hù)：獨(dú)立限溫保護(hù)

檢測點(diǎn)數(shù)：6點(diǎn)檢測，記錄儀

氮?dú)饪刂疲貉b有雙通道可調(diào)式氮?dú)饬髁坑?jì)，全程通氮?dú)?/span>

在線咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補(bǔ)充說明：
驗(yàn)證碼：

請輸入計(jì)算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：織物低溫測定儀，紡織涂層低溫脆化試驗(yàn)儀
下一篇：涂層織物低溫測試儀，織物耐低溫沖擊試驗(yàn)機(jī)

国产成人av性色在线影院色戒-色妞ww精品视频7777-亚洲精品无码成人片久久不卡-97婷婷狠狠成为人免费视频-国内精品久久久久久久久电影网

無氧烘箱，無氧化烘箱在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，晶圓表面預(yù)處理、涂膠、曝光前后的烘焙即曝光后烘烤（Post Exposure Bake，PEB）、對準(zhǔn)、顯影、顯影后烘焙等因素都會對光刻工藝效果帶來顯著影響

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補(bǔ)充說明：

驗(yàn)證碼：