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真空無(wú)氧烤箱,無(wú)氧化真空烘箱 工業(yè)烘箱

真空無(wú)氧烤箱,無(wú)氧化真空烘箱用于光刻膠BCB,聚酰亞胺PI/CPI固化,BPO固化,LCP纖維熱處理,

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-09-17
  • 訪  問(wèn)  量:1830
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產(chǎn)品詳情

真空無(wú)氧烤箱,無(wú)氧化真空烘箱

真空無(wú)氧烘箱用于光刻膠BCB,聚酰亞胺PI/CPI固化,BPO固化,LCP纖維熱處理,晶圓干燥烘烤等工藝,主要用于集成電路、化合物半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電、TFT/LCD等半導(dǎo)體相關(guān)行業(yè)。


兼容性:2寸-12寸/碎片兼容。

低氧濃度:可達(dá)20PPM氧氣下實(shí)現(xiàn)真空固化。

能耗低,真空狀態(tài)固化,節(jié)約了80%N?量。

無(wú)污染,腔體內(nèi)部所有材料均為316L醫(yī)用級(jí)不銹鋼,無(wú)任何顆粒產(chǎn)生。


真空無(wú)氧烤箱,無(wú)氧化真空烘箱

溫度:RT-400/500度

真空度:小于1torr

操作:真彩人機(jī)界面,一鍵運(yùn)行

冷卻方式:水冷卻+風(fēng)冷

氣路:2路N2

程序模式:程序運(yùn)行10個(gè),每個(gè)程序可設(shè)置25步

隔熱材料:陶瓷纖維

工作腔:40-800L可選

工藝要求

  1. 降低腔體氧濃度

  2. 真空后升溫,線性升溫至1xx℃,保溫一定時(shí)間

  3. 再線性升溫至1xx℃,保溫約 60min;

  4. 繼續(xù)升溫至x00℃,視涂層厚度不同加熱10-x0min

  5. 保溫約60min;

  6. 降溫至100℃以下

  7. 充氮?dú)饣貕洪_門


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